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離子束刻蝕系統IBE

簡要描述:v離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣

基礎信息

產品型號

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代理商

更新時間

2024-10-22

瀏覽次數

340
詳細介紹

v 離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項,包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調,以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果

v 應用方向:

? 磁阻式隨機存取存儲器(MRAM

? 介電薄膜

? III-V族光電子材料刻蝕

? 自旋電子學

? 金屬電極和軌道

? 超導體

? 激光端面鍍膜

? 高反射(HR)膜

? 防反射(AR)膜

? 環形激光陀螺反射鏡

? X射線光學系統

? 紅外(IR)傳感器

? II-VI族材料

? 通信濾波器

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