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快速退火爐RTP

簡要描述:v主要功能:快速熱退火,快速熱氧化,快速熱氮化,擴散,化合物半導體退火,離子注入后退火,電極合金化等v樣片尺寸:8inch,向下兼容,支持不規整樣品退火v退火溫度范圍:室溫~1200℃

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更新時間

2024-10-22

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詳細介紹

v 主要功能:快速熱退火,快速熱氧化,快速熱氮化,擴散,化合物半導體退火,離子注入后退火,電極合金化等

v 樣片尺寸:8inch,向下兼容,支持不規整樣品退火

v 退火溫度范圍:室溫~1200 ℃

v 室溫到1000度,升溫速率120 ℃/second

v 全程熱電偶測溫,不使用高溫計,無需額外校準

v 退火溫度的重復性、準確性± 1 ℃

v 兩路工藝氣體,MFC流量計控制,流量為0-5NLM

v 可通入氮氣、氧氣,可以分別通入或者通入混合氣體

v 可選擇真空退火模式,真空度可達10^-6hpa

v 配置前級泵,抽速3L/s,極限壓力4*10-2pa

v SPS SIMATIC 軟件控制工藝過程,可編程序不少于50個,且每個程序可編程步驟不少于50


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