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實驗型顯影機

簡要描述:v全封閉式桌面顯影機

基礎信息

產品型號

廠商性質

代理商

更新時間

2024-10-22

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266
詳細介紹

v 全封閉式桌面顯影機主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝,設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)

v 支持wafer尺寸:碎片至200mm(可根據(jù)客戶需求定制四管路或更大基片)

v 單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序

v 轉速分辨率:±1 RPM

v 旋涂速度:20-3000rpm(空載)

v 旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)

v 工藝時間設定:0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec


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